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本論文藉由物理氣相沉積系統(PVD)沉積矽薄膜於自組裝單分子薄膜(SAM)改質後的石英基板，並利用固相結晶法(SPC)使非晶矽薄膜結晶為多晶矽薄膜，最後使用SEM觀察表面型態；Raman光譜、XRD…
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本實驗使用脈衝直流磁控濺鍍系統在200℃及400℃二種環境下鍍製出兩個系列共10批Cr-Si-C-N奈米複合薄膜，鍍製時通入四甲基矽烷(TMS)為前驅物作為薄膜內矽與碳的來源，在製程中逐漸提升TMS…
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由於石墨烯在各方面的應用上皆表現出驚人的特性，人們對於石墨烯的研究及應用越來越重視，甚至有學者將它稱為能夠改變21世紀之材料。 本研究係使用PVD濺鍍配合真空退火處理之製程來製造石墨烯，不同…
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本研究成功的以RF反應式濺鍍法來製備III族氮化物薄膜，如GaN與InGaN等薄膜，濺鍍所需要的靶材則是將不同比例的金屬In、Ga與GaN陶瓷粉末混合後熱壓而成的陶金靶，靶材中的Ga含量需小於GaN…
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台灣面板產業自1998年開始蓬勃發展，早期受到政府的大力支持，定義為「兩兆雙星」的重點產業。但是在2008年金融海嘯之後台灣面板產業嚴重受創，加上面臨韓國和中國的價格競爭，導致台灣的面板廠近幾年來虧…
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本實驗成功的以RF反應式濺鍍法來製備p型Mg摻雜InGaN薄膜。並且也成功的將GaN薄膜與摻雜Mg的InGaN薄膜堆疊製作成二極體觀察其電特性。於本實驗中我們利用EDS、SEM、AFM、XRD、霍爾…
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本研究利用磁控濺鍍技術，製備釔安定氧化鋯(8YSZ)薄膜於不同基板上，並觀察不同製程條件下對電性變化的影響，8YSZ薄膜是否具備高離子導電效率的議題一直以來備受爭議，本文利用不同疊構設計來確認8YS…
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電阻式隨機存取記憶體(RRAM) 已經引起相當大的關注於下一代非揮發性記憶體的應用，由於其結構簡單可應用於高密度積體電路，也可以兼容於傳統的互補式金屬氧化物半導體(CMOS)，並且具有低操作功率、開…